TFT-LCD өндүрүш процессинде колдонулган атайын газ процесси CVD чөкүү процессинде: силан (S1H4), аммиак (NH3), фосфор (рН3), күлкү (N2O), NF3 ж.б. жана процесске кошумча Жогорку тазалык суутек жана жогорку тазалыктагы азот жана башка ири газдар.Аргон газы чачыратуу процессинде колдонулат, ал эми чачыраткыч пленка газы чачыратуу үчүн негизги материал болуп саналат.Биринчиден, пленканы түзүүчү газды химиялык жактан максаттуу реакцияга киргизүү мүмкүн эмес жана эң ылайыктуу газ бул инерттүү газ.Атайын газдын чоң көлөмү, ошондой эле оюу жараянында колдонулат, ал эми электрондук атайын газ негизинен күйүүчү жана жарылуучу, жана өтө уулуу газ, ошондуктан газ жолуна талаптар жогору.Wofly Technology ультра жогорку тазалыктагы транспорттук системаларды долбоорлоого жана орнотууга адистешкен.
Атайын газдар негизинен ЖК тармагында пленканы түзүү жана кургатуу процессинде колдонулат.Суюк кристалл дисплей классификациянын кеңири түрүнө ээ, мында TFT-LCD тез, сүрөт тартуу сапаты жогору жана баасы акырындык менен төмөндөйт жана учурда эң кеңири колдонулган ЖК технологиясы колдонулат.TFT-LCD панелинин өндүрүш процессин үч негизги этапка бөлүүгө болот: алдыңкы массив, орто багытталган бокс процесси (CELL) жана этаптан кийинки модулду чогултуу процесси.Электрондук атайын газ негизинен мурунку массив процессинин пленка түзүү жана кургатуу стадиясында колдонулат жана SiNX металл эмес пленка жана дарбаза, булак, дренаж жана ITO, тиешелүүлүгүнө жараша, металл пленкасы, дарбаза, булак, дренаж жана ITO.
Азот / Кислород / Аргон Дат баспас болоттон жасалган 316 Жарым Автоматтык Газды башкаруу панели
Посттун убактысы: 2022-жылдын 13-январына чейин